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　　日立高新推出的掃描電鏡SU3800/SU3900兼具操作性和擴展性，結合眾多的自動化功能，可發揮其高性能。SU3900標配多功能大樣品倉，可應對大型樣品的觀察。日立電鏡_鎢燈絲掃描電鏡_SU3800/SU3900掃描電子顯微鏡特點：①SU3900標配多功能大樣品倉，可應對大型樣品的觀察■樣品臺可搭載大/重樣品通過更換樣品提示，可防止由于與樣品的接觸而損壞設備或樣品選配樣品交換倉，可在主樣品倉保持真空的狀態下快速更換樣品，大大提高了工作效率具備樣品臺移動限制解除功能,提高了自由度*紅外CCD探測器，提高了樣

　　FlexSEM 1000 II，憑借全新設計的電子光學系統和高靈敏度檢測器，可在加速電壓20 kV下實現4.0 nm的分辨率。全新的用戶界面，具有亮度和對焦自動調節功能，可以在短時間內進行各種觀察。此外，還搭載了全新的導航功能“SEM MAP”，這個功能可彌補電子顯微鏡上難以找準視野的缺點，實現直觀的視野移動。盡管是可放置在桌面上的小巧緊湊型*1電子顯微鏡，仍可實現4.0 nm的分辨率憑借特的高靈敏度二次電子、背散射電子檢測器、低真空檢測器（UVD*2），可在低加速/低真空下觀察時實現高的畫質全新的用戶界

　　TM4000PlusIII/TM4000III的特點：★節省人力成本，降低操作技術難度▲多樣品自動化觀察：觀察工作流程的自動化功能（TM4000PlusIII）可以作為程序保存樣品臺移動、倍率變更、拍照等觀察流程。程序化的觀察流程，一鍵單擊即可自動執行操作。為不同類型客戶（如日常使用量較多，需進行多樣品觀察的客戶，對觀察條件不確定的客戶等）節省人力成本，降低操作技術難度。▲實現快速自動顆粒分析：大電流功能 + AZtecLiveLite 顆粒分析功能工業產品的清潔度分析和使用過濾膜收集顆粒并進行自動分析的

　　更靈活的成像工具 – 配備Gemini 1鏡筒的蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 360可以實現各種樣品的高分辨成像、分析和各種應用需求的拓展。更強大的分析能力 - 配備Gemini 2鏡筒的蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 460可應對更加復雜的分析工作。連續可調的大束流使您可以在成像和分析條件之間無縫切換。更高性能的表征體驗 - 蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 560配有Gemini 3鏡筒及其新型電子光學引擎，讓它在各種工作條件下均可發揮該系列高分辨率特性。★司場發射掃描電鏡Gemin

　　蔡司MultiSEM掃描電子顯微鏡簡介：借助 MultiSEM 顯微鏡，您可以充分運用 91 條并行電子束的采集速度。現如今，您能夠以納米分辨率對厘米級樣品成像。這款掃描電子顯微鏡（SEM）專為 7 x 24 小時的連續、可靠運行而設計。只需簡單設置高性能數據采集流程，MultiSEM 便能夠立地自動完成高襯度圖像采集。使用成熟的 ZEN 成像軟件控制 MultiSEM：您可以直觀靈活地管理這款高性能掃描電子顯微鏡的所有功能選項。蔡司MultiSEM掃描電子顯微鏡特點：n以較高速度和納米分辨率采集圖像=9

　　AFM作為一種掃描探針顯微鏡(SPM : Scanning Probe Microscope),使用前端直徑為數納米(1納米：百萬分之一毫米)的尖銳探針掃描樣品表面，可同時實現納米級別的樣品表面的形貌觀察和物性映射評估。AFM已廣泛應用于電池材料、半導體、高分子、生物材料等各個領域的科學研究開發和質量管理。AFM100/100Plus，非專業人員都能輕松且穩定地獲取可靠數據，從而完成從科學研究用途到質量管理中的日常作業。特別是AFM100 Plus，其用途十分廣泛，可用于從觀察石墨烯和碳納米纖維等納米材料

　　掃描探針顯微鏡AFM5500MⅡ配置寬范圍平板掃描器，降低了機械原因造成的測量誤差。自動懸臂更換等自動化功能有助于提升品質管理，提高測試效率。單使用AFM5500MⅡ測試可以得到形貌和物理測量結果，再利用與SEM/CSI等其他顯微鏡的共享坐標樣品臺功能，可以實現高精度的故障解析與缺陷評價。此外，由于新增了AFM標記功能，多臺設備可以輕松測量樣品的同一位置。HITACHI日立全自動掃描探針顯微鏡AFM5500MⅡ規格：型號AFM5500M尺寸?重量裝置外觀尺寸?重量※1750 mm(W) x 877 mm(

　　AFM5000Ⅱ工作站采用全新的圖標用戶界面，標準配備參數自動設置功能(RealTune® II)，即使是剛剛接觸SPM的初學者或者遇到全新的樣品時，也能快速獲得準確的測量數據。1. RealTune® II的參數自動設置功能有的參數自動設置功能！RealTune® II可預測并調整懸臂的振動振幅、動作頻率等主要參數，可以根據樣品表面的形貌、掃描范圍、掃描速度以及使用的懸臂的狀況，率、高精度地調整成合適的測量條件。通過新增加的參數自動設置功能（RealTun

　　Orion NanoFab 擁有納米加工和成像引擎 - 配有集成軟、硬件的控制系統。納米圖形發生器（NPVE）為每個 NanoFab 鏡筒提供了一臺 16 位掃描圖形發生器，以及支持實時圖案加工和成像的雙信號采集硬件。通過圖形化用戶界面（GUI）完全控制離子束：可創建一系列可編輯的形狀，如矩形、梯形、多邊線、直線、折線、橢圓及點。然后，對這些形狀進行矢量切割，并通過劑量和加工參數的調節進行完全的過程控制。離子束顯微鏡ORION NanoFab特點：快速亞 10 nm 結構加工使用氖和氦離子束加工有高精度要

　　顯微分光光度計采用了光柵和光線感應器，可進行高速可重復的測量。 可測量多數分光光度計無法測量的曲面和平面微小的點。奧林巴斯近紅外顯微分光測定儀USPM-RU-W從380nm~1050nm的可視光至近紅外實現大范圍波長區域中的分光測定奧林巴斯的近紅外顯微分光測定儀USPM-RU-W可以高速&高精細地進行可視光區域至近紅外區域的大范圍波長的分光測定。由于其可以很容易地測定通常的分光光度計所不能測定的細微區域、曲面的反射率，因此十分適用于光學元件與微小的電子部件等產品。n使用一臺即可進行反射率、膜厚、物

　　LUMOS II 是一款獨立的傅立葉變換紅外顯微鏡，可用于失效分析、材料研究和顆粒分析等方面。它采用FPA技術，結構緊湊、精確，具有超快的化學成像功能。傅立葉變換紅外顯微鏡LUMOS II技術特點：?標準TE-MCT探測器?即插即用：無需液氮，無需吹掃?可選的焦平面陣列（FPA）成像探測器?新校準技術 PermaSure+?全電動化和自動化硬件?允許最大樣品厚度達40毫米?包括激光在內的元件壽命長?抗高濕度（ZnSe光學元件）?獨立設計，占地面積小?低功耗傅立葉變換紅外顯微鏡LUMOS II提供：◎軟件引