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　　蔡司LSM 900激光掃描共聚焦顯微鏡（CLSM）是一臺用于材料分析的儀器，可在實驗室或多用戶設施中表征三維微觀結構和表面形貌。LSM 900可對納米材料、金屬、聚合物和半導體進行三維成像和分析。將蔡司Axio Imager.Z2m正置式全自動光學顯微鏡或蔡司Axio Observer 7倒置式顯微鏡裝上LSM 900共聚焦掃描頭，同時具有所有的光學顯微鏡觀察模式，以及高精度的共聚焦表面三維成像模式，您可輕松將所有功能集于一身。這些功能的使用無需切換顯微鏡，您將可以進行原位觀察，節省大量的時間。自動化也會

　　奧林巴斯激光共焦顯微鏡采用了較佳光學系統，可通過非破壞觀察法生成高畫質的圖像并進行JQ的3D測量。其準備操作也非常簡單且無需對樣本進行預先處理。具有高精度和光學性能的LEXT?OLS5100激光掃描顯微鏡配備了讓系統更加易于使用的智能工具。其能夠快速完成亞微米級形貌和表面粗糙度的測量任務，既簡化了工作流程又能讓您獲得可信賴的高質量數據。LEXT? OLS5100 3D激光掃描顯微鏡用于材料分析的激光顯微鏡更智能的工作流程，更快速的實驗設計適用于故障分析和材料工程研究的OLS5100激光顯微鏡將測量精度和光

　　EVO系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗結合在一起，同時能夠吸引經驗豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學， 材料科學， 或例行的工業質量力求和失效分析領域，憑借廣泛的可選配置， EVO 都可以根據您的要求量身定制。顯微鏡中心或工業質量力求實驗室的多功能解決方案不同的真空室大小和可滿足所有應用要求的載物臺選項-甚至是大型工業零部件樣品使用LaB6燈絲，能夠得到更優的圖像質量對不導電和無導電涂層的樣品的成像和分析性能出色可以配置多種分析探測器用于滿足各種顯微分析應用的需求蔡司電鏡|EVO系列

　　利用成熟的 Gemini 電子光學元件，將佳的分析性能與場發射掃描技術相結合。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間：設置成像與分析步驟，提率。Sigma300 性價比高。Sigma 500 裝配有背散射幾何探測器，可快速方便地實現基礎分析。樣品均可獲得更精準可重復的分析結果。蔡司場發射掃描電鏡Sigma系列落地式掃描電子顯微鏡特點：l用于清晰成像的靈活探測*利用探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。*利用 in-lens 雙探測器獲取形貌

　　CUBE系列臺式掃描電鏡是一款緊湊型桌面掃描電子顯微鏡。區別于傳統掃描電鏡的笨重機身，CUBE系列占地面積小，便攜性能好，無需特殊安裝環境，用戶可遵照客戶服務指南任意移動SEM設備，節約空間成本。中心傾斜對于3D重構功能至關重要，CUBE系列提供馬達驅動多功能樣品臺，可進行XYZ運動切換，方便用戶輕松找到理想檢測區域。并且CUBE系列擁有自動拍攝功能與圖片自動拼接功能，快速獲取所需要的質量信息，自動化操作減少人為失誤。CUBE系列臺式掃描電鏡特點：高分辨率,與落地式SEM一樣優異高空間利用率和便攜性，易于

　　國產電鏡|鎢燈絲掃描電子顯微鏡|EM69系列鎢燈絲掃描電鏡產品特點：兼容低真空模塊豐富的自動化功能支持定制化選配多功能超大樣品倉大視野導航相機拓展豐富技術參數：分辨率——EM6910/6920 SE：3nm@30kV，8nm@3kV； BSE ：4nm@30kV（選配）樣品臺——EM6910 五軸自動中樣品臺，EM6920 五軸自動大樣品臺加速電壓——EM6910/6920 0.2kV-30kV探測器——EM6910/6920 二次電子探測器、半導體四分割背散射探測器（選配）、紅外 CCD、低真空二次

　　EM80系列場發射掃描電鏡_EM8010/8020場發射掃描電子顯微鏡產品特點：肖特基場發射電子槍多級高性能透鏡系統束流穩定性高可定制超大樣品倉操作簡便拓展性豐富 性價比高應用領域：材料科學、生物學、醫學、化學、環境科學等多個領域。技術參數：分辨率——EM8010/8020 SE 1.5nm@15kV；BSE 3nm@30kV（選配）放大倍數——EM8010 1x-600000x 光學放大 1x-100x（選配）EM8020 1x-600000x 光學放大 1x-100x電子槍——EM8010/

　　場發射掃描電鏡EM8100產品特點：亞納米級分辨率低像差錐形物鏡大束流自動化控制系統超大樣品倉鏡筒加速技術場發射掃描電子顯微鏡EM8100應用領域：EM8100高分辨場發射掃描電子顯微鏡，采用鏡筒加速技術、低像差錐形物鏡等全新電子光學設計，能夠在低電壓下實現亞納米級的成像效果，對各類材料具有廣泛的適用性，能夠滿足多種科研和工業領域的測試需求。場發射掃描電鏡EM8100技術參數：分辨率——SE 0.9nm@30kV放大倍數——1x-3000000x，光學放大1x-100x電子槍——Schottky 肖特基場

　　EM8200超高分辨場發射掃描電鏡產品特點：新一代低像差物鏡、減速樣品臺、低壓高分辨成像低噪聲Inlens探測器自動推入式背散射探測器全新的用戶界面設計豐富的軟件測量功能應用領域：EM8200超高分辨場發射掃描電子顯微鏡，采用全新電子光學設計，基于減速樣品臺、新一代低像差物鏡、Inlens探測器等技術，集成豐富的圖像處理功能，為新能源、半導體等用戶提供全新解決方案。技術參數：分辨率——SE 0.8nm@15kV、1.5nm@1kV放大倍數——1x-1600000x；光學放大 1x-100x電子槍——Sch

　　隨著快速數據采集和數據處理技術的發展，電子顯微鏡進入了一個不僅重視數據質量，而且重視其采集過程的時代。SU8600系列秉承了Regulus8200系列的圖像、大束流分析及長時間穩定運行的冷場成像技術，同時還大大提升了高通量、自動數據獲取能力。*設備照片包含選配項。日立場發射掃描電子顯微鏡SU8600系列特點：★高分辨成像日立的高亮度電子源可力求了即使在低著陸電壓下，也可獲得高分辨的圖像。★高襯度的低加速電壓背散射圖像3D NAND截面觀察;在低加速電壓條件下，背散射電子信號能夠明顯的顯示出氧化硅層和氮化硅

　　SU7000不僅可以在低加速電壓下獲得高畫質圖像，而且還可以同時接收多種信號。此外，它還具備大視野觀察、In-Situ觀察等FE-SEM的眾多優異良能。SU7000是一臺實現了獲取大量信息的新型掃描電鏡，可以滿足客戶的多種觀察需求。接下來請欣賞SU7000帶來的多彩世界。*圖為包含選配項的SU7000示意圖日本日立高分辨肖特基場發射掃描電鏡SU7000核心理念：1.采用優的成像技術SU7000可以迅速獲取從大視野全貌圖到表面微細結構等多種檢測信號。全新設計的電子光學系統和檢測系統，使得裝置可以同時接收二次

　　電子顯微鏡(EM)品牌進口|HITACHI日立掃描電子顯微鏡|SU5000熱場式場發射掃描電鏡特點：▲高性能電子光學系統二次電子分辨率: 頂位二次電子探測器(2.0 nm at 1kV)＊高靈敏度: PD-BSD, 強的低加速電壓性能，低至100 V成像大束流(>200 nA): 便于微區分析▲性能優良壓力可變: 具有優異的低真空(10 -300 Pa)成像性能，配備高靈敏度低真空探測器(UVD)＊開倉室快速簡單換樣(大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)微區分析: EDS, WDS,