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場發射掃描電鏡EM8100

所屬系列:ZJYQ-GYXWSEM-ZKKY


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產品描述
場發射掃描電鏡EM8100產品特點:
亞納米級分辨率
低像差錐形物鏡
大束流
自動化控制系統
超大樣品倉
鏡筒加速技術
場發射掃描電子顯微鏡EM8100應用領域:
EM8100高分辨場發射掃描電子顯微鏡,采用鏡筒加速技術、低像差錐形物鏡等全新電子光學設計,能夠在低電壓下實現亞納米級的成像效果,對各類材料具有廣泛的適用性,能夠滿足多種科研和工業領域的測試需求。
場發射掃描電鏡EM8100技術參數:
分辨率——SE 0.9nm@30kV
放大倍數——1x-3000000x,光學放大1x-100x
電子槍——Schottky 肖特基場發射電子槍
加速電壓——0.2kV-30kV
樣品臺——五軸自動大樣品臺,具有防碰撞報警功能
探測器——高真空二次電子探測器、紅外CCD攝像頭、光學導航、半導體四分割背散射探測器(選配)
外形尺寸——電子光學鏡筒部分: 1000×1000×1730(mm),電器柜控制部分: 1330×850×740(mm)
場發射掃描電子顯微鏡EM8100儀器特點:
1、不同探測器同時成像
    顯示SE,BSE 雙通道圖像,可任意設置不同探測器的信號混合比例
    BSE探測器,反應樣品表面的成分特征
2、大圖拼接:可連續自動采圖,避免人工操作的繁瑣和誤差。實現多個圖像準確拼接,生成高分辨率的大圖。
場發射掃描電鏡EM8100選配附件:
EDS/EBSD/STEM/CL/LoadLock過渡倉/加熱臺/冷臺/拉伸臺等

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