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離子濺射儀MC1000

所屬系列:ZJYQ-ZYQCLJD-HITACHI

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產(chǎn)品描述
采用LCD觸摸屏,可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

離子濺射儀MC1000規(guī)格:


項(xiàng)目

說(shuō)明

放電

類型

磁控二管放電型(電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng))

電組成

反向平行盤(pán)(嵌入磁鐵)

電壓

0.4 kV DC(直流可變)

電流

40 mA DC

噴鍍速率 *1()
[條件]
壓力:7 Pa
放電電流:40 mA
標(biāo)靶與樣品表面之間的距離:20 mm

Pt (選配件)

15 nm/min

Pt-Pd (選配件)

20 nm/min

Au (選配件)

35 nm/min

Au-Pd (選配件)

25 nm/min

樣品尺寸

大直徑

φ60 mm

大高度

20 mm

機(jī)械泵

135/162 l/min (50/60Hz)

靶材*2

Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)

電源要求

單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)

尺寸

寬度

450 mm

長(zhǎng)度

391 mm

高度

390 mm

重量

主機(jī):約 22 kg
機(jī)械泵:約 30 kg

*1噴鍍速率僅供參考

*2主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請(qǐng)從選項(xiàng)中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-)



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