所屬系列：ZJYQ-ZYQCLMP-HITACHI
相關說明：上海鑄金分析器有限公司可根據用戶的實際情況，提供“制樣電鏡設備”相關方案。本站信息僅供參考，相關產品可能存在已停產、升級、變更等情況，不保證相關信息的及時、準確。本公司支持新廣告法及其它法律法規，已盡量避免相關詞語及違法違規信息，但頁面眾多信息較早，某些詞僅是在某特定時期、特定環境、限定范圍內的描述，請勿誤解。當然，也不排除錄入錯誤、漏刪、被惡意攻擊篡改等可能性。為避免誤解，在此鄭重聲明，上海鑄金分析儀器有限公司所有網頁上的絕對化用詞與功能性用詞全部失效。如您介意，敬請忽略相關文字、聯系鑄金更改或直接離開本站。更多信息可閱讀本站首頁（或 關于鑄金 菜單下）“網站聲明”。如您對“離子研磨儀IM4000II”有需求可聯系鑄金或廠家獲取更新更準確信息。
021-3640073913391253866
電話咨詢
離子研磨儀IM4000II規格：
|
主要內容 |
|
|
使用氣體 |
氬氣 |
|
氬氣流量控制方式 |
質量流量控制 |
|
加速電壓 |
0.0 ～ 6.0 kV |
|
尺寸 |
616(W) × 736(D) × 312(H) mm |
|
重量 |
主機53 kg＋機械泵30 kg |
|
截面研磨 |
|
|
快研磨速度（Si材料） |
500 μm/h*1以上 |
|
大樣品尺寸 |
20(W）×12(D）×7（H）mm |
|
樣品移動范圍 |
X±7 mm、Y 0 ～+3 mm |
|
離子束間歇加工功能 |
1秒 ～ 59分59秒 |
|
擺動角度 |
±15°、±30°、±40° |
|
廣域截面研磨功能 |
- |
|
平面研磨 |
|
|
大加工范圍 |
φ32 mm |
|
大樣品尺寸 |
Φ50 X 25 (H) mm |
|
樣品移動范圍 |
X 0～＋5 mm |
|
離子束間歇加工功能 |
1秒 ～ 59分59秒 |
|
旋轉速度 |
1 rpm、25 rpm |
|
擺動角度 |
±60°、± 90° |
|
傾斜角度 |
0 ～ 90° |
*1將Si片從遮擋板邊緣突出100 μm并加工1小時的深度。
選配項：
|
項目 |
內容 |
|
低溫控制功能*2 |
通過液氮間接冷卻樣品，溫度設定范圍：0°C ～ －100°C |
|
硬遮擋板 |
使用時間約為標準遮擋板的2倍（不含鈷） |
|
加工過程觀察用顯微鏡 |
放大倍數 15× ～ 100× 雙目型、三目型（可裝CCD） |
*2需與主機同時訂購。冷卻溫度控制功能在使用時，部分功能可能使用有限。
